※ Hydrogen Ion Implanter
제작회사
▶ ULVAC (JAPAN)
Model
▶ SMI-60H
장비요약
▶ 수소 이온 주입
주요사양
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Ion |
H2+ |
System 구성 - Hydrogen ion implanter - Ion source - End station - Control PC |
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Accelation Voltage |
30 ~ 70 keV |
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Implant Dose Range |
1E15 ~ 2E17 ions/cm2 |
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Tilt |
0 ~ 60° |
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Twist |
0 ~ 359° |
▶ 자세한 사양 및 공정 범위에 대해서는 담당자에게 문의
특이사항
▶ 공정 가능 sample 종류: wafer
▶ Loading Size: 2", 4", 6", 8", 12"
▶ Wafer 표면에 metal layer가 있는 경우, PR이 coating돼 있는 경우는 공정 진행 불가
▶ High dose 공정시 담당자 협의 후 진행
장비 담당자
▶ 박준성 연구원 (Tel: 02-2220-0234, Mail: silversmith_@naver.com)
▶ 최지호 연구원 (Tel: 02-2220-0234, Mail: choijiho123@hanyang.ac.kr)